美国Cee®兆声清洗显影设备
Cee® Benchtop Megasonic Developer and Cleaner

Cee® 300MXD可有效清除0.15um的微尘及杂质，并不会对基板表面造成损伤
 
Brewer Science®是为半导体、微电子市场提供高科技解决方案的主要革新者。来自市场的迫切需求督促我们不断提高创造力和知识水平，并为市场提供高科技的产品，Brewer Science®的产品包括各种化学用品，例如anti-reflective胶，光电子及MEMS材料，超净间使用的涂胶、显影、热板、兆声清洗设备等。

Brewer Scienc拥有30年的匀胶设备制造历史，Cee®品牌设备证明了可以在小型、灵活、更便宜的设备上实现价值百万美元设备的均匀性，Cee®热板的0.3%的温度均匀性，和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准，通过不断把最新的技术融入设备中，Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户，其中包括知名的：杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等。

兆声清洗显影设备：

       兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。兆声波清洗的机理是由高频(1000kHz)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，最大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

      兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小至0.15μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法
                                       
                                                          Cee®300MXD兆声清洗显影设备


Cee®300MXD 兆声清洗显影设备, 主要应用于：