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截止到2008年1月,ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机,50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等,ABM在中国各地也拥有不同领域的客户,包括众多的工厂、知名大学和研究所等。

ABM-LED
光刻机(标准型)




                        设备型号ABM/6/350/NUV/DCCD/M

ABM-LED光刻机(标准型)适用于蓝光LED、红光LED、绿光LED、白光LED、绿光LED、TFT-LCD光刻,OLED光刻的研发和生产,ABM-LED光刻机(标准型)具有高稳定性、坚固耐用、性能卓越等突出特点。因此被大多数研发机构和生产企业所青睐。

光学系统:

 曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s)
 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环;
 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标;
 有安全保护装置的温度及其气流传感器;
 全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;
 波长滤片检查及安装装置
 抗衍射反射功能高效反光镜;
 二向色的防热透镜装置;
 防汞灯泄漏装置;
 配备蝇眼棱镜装置
 配备近紫外光源
    --365 nm 输出强度 – 大约 18-20 mW/ cm2
    --400 nm 输出强度 – 大约 30-35 mW/ cm2

主要配置:

 6“光源系统
 配置2英寸或4英寸卡盘
 手动系统(半自动系统, 自动对准系统可选)
 支持电源350w
 90-600倍连续放大CCD(方便LED基片对准)
 棱镜对准装置,使最小双视场对准缩小为10mm(支持LED碎片光刻)

主要性能指标:

 光强均匀性Beam Uniformity::
   --<±1% over 2” 区域
   --<±2% over 4” 区域
   --<±3% over 6” 区域

 
接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um
 支持接近式曝光,特征尺寸CD:
     --0.8um 硬接触 
    --1um    20um 间距时
    --2um    50um 间距时
 
正面对准精度 ±0.5um
 支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻
 支持真空、接近式、接触式曝光
 支持恒定光强或恒定功率模式

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详细信息请联系:
 
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 
tom@hacori.com,何先生

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