截止到2008年1月,ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机,50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等,ABM在中国各地也拥有不同领域的客户,包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
ABM-LED光刻机(标准型)
设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M
ABM-LED光刻机(标准型)适用于蓝光LED、红光LED、绿光LED、白光LED、绿光LED、TFT-LCD光刻,OLED光刻的研发和生产,ABM-LED光刻机(标准型)具有高稳定性、坚固耐用、性能卓越等突出特点。因此被大多数研发机构和生产企业所青睐。
光学系统:
曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s) 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环; 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标; 有安全保护装置的温度及其气流传感器; 全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度; 波长滤片检查及安装装置 抗衍射反射功能高效反光镜; 二向色的防热透镜装置; 防汞灯泄漏装置; 配备蝇眼棱镜装置 配备近紫外光源 --365 nm 输出强度 – 大约 18-20 mW/ cm2 --400 nm 输出强度 – 大约 30-35 mW/ cm2
主要配置:
6“光源系统 配置2英寸或4英寸卡盘 手动系统(半自动系统, 自动对准系统可选) 支持电源350w 90-600倍连续放大CCD(方便LED基片对准) 棱镜对准装置,使最小双视场对准缩小为10mm(支持LED碎片光刻)
主要性能指标:
光强均匀性Beam Uniformity:: --<±1% over 2” 区域 --<±2% over 4” 区域 --<±3% over 6” 区域 接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um 支持接近式曝光,特征尺寸CD: --0.8um 硬接触 --1um 20um 间距时 --2um 50um 间距时 正面对准精度 ±0.5um 支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻 支持真空、接近式、接触式曝光 支持恒定光强或恒定功率模式
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详细信息请联系: 电话: 86-10-87721612,87721672 传真: 86-10-87721672 tom@hacori.com,何先生 |