美国Cee®均匀性测试
Cee® Benchtop Spin Coater, Bake Plate and Develop Equipment

Cee® 品牌设备证明了可以在小型、灵活和更便宜的设备上实现价值百万美元设备的均匀性，

Brewer Science拥有30年的匀胶设备制造历史，Cee® 热板的0.3%的温度均匀性，和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准，通过不断把最新的技术融入设备中，Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户，其中包括知名的：杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等，在中国Cee®品牌也拥有众多的成功客户。

 Su8 25光刻胶均匀性测试（200mm, 8英寸Wafer）：
   14.63um ±0.25um （1.7%）

 495PMMA A11 光刻胶均匀性测试（200mm, 8英寸Wafer）：

    1.26um ±0.008um （0.63%）

 

    0.6694um ±0.002um （0.29%）

 AZ1512 光刻胶均匀性测试（200mm, 8英寸Wafer）：

     1.32um ±0.004um （0.348%）