 专注于真空薄膜领域
In Line Sputtering System 多腔室溅射设备 Co Sputtering System 共溅射系统
Ion Sputtering System 离子溅镀设备 Ultra high vacuum System 超高真空薄膜系统
PLD 激光脉冲沉积设备 Customer Design System 支持客户自定义薄膜系统
超高真空热蒸镀设备 UHV Thermal Evaporation System
热蒸镀设备LJTH-450
 类型： 1x20cc，4x70cc, 3KW, 6KW
真空（Torr） 5×10-7，5×10-9
压力控制： 可选
流量控制： 可选
加热： 400 ℃
基板： 2，3，4，6，2"x5 or bigger
晶片转速： 30-120rpm
辅助沉积工艺：离子源辅助，等离子体辅助，基座偏压（Bias）
loadlock： 可选
真空計： Ion/冷陰極/熱偶式 數位显示
热蒸镀设备LJTH-400
详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 tom@hacori.com,何先生
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