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纳米工艺解决方案
Nanoimprint Lightgraphy 纳米光学
Nano Fabriction Solution 纳米结构加工和制作
Nanoimprint Tool 纳米压印设备
Nanoimprint Material 纳米压印材料
Nanoimprint Stamp 纳米压印印章 | 
NLS Imprinting. INC
NLS Imprinting. INC. 在纳米压印领域提供了创新的一步骤自动脱膜Auto Relese TM纳米压印技术，压印效果可以实现10nm，并完成套刻对准。Nanolithosolution获得国际知名Hewlett-packard lab (HP lab)实验室的专利技术，并基于多年研发经验，开发了更有效、更便捷的纳米UV压印设备。纳米压印产品良率可高达99%。相关纳米压印工艺包括：
 纳米压印模板自动脱离工艺-减少纳米压印结构缺陷
纳米压印胶点胶装置-可过滤0.20um的杂质，保证压印效果
纳米压印单层压印工艺-适合刻蚀（etching）工艺
纳米压印双层压印工艺-适合剥离（lift-off）工艺
纳米压印程序设定及优化工艺-可掌握纳米压印关键技巧
纳米压印模板抗粘层处理及材料-可对模板进行抗粘层处理
纳米压印模板复制工艺-可完成复制母版工艺
纳米压印快速模板转换工艺-可使用硅模板简单转化并实现UV压印工艺
纳米压印软膜压印工艺-提供完整的软膜压印工艺，可完成曲面压印并减少压印结构缺陷
 Hewlett-packard lab (HP lab)
Nanolithosolution INC. 提供的UV压印设备，拥有独特、稳定、革新性的一步压印技术，可满足高性能、高产出、高良率的要求，是纳米压印领域高性价比的产品。
Application 产品领域
Application 产品应用
应用实例：
详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672, 13701339561
 tom@hacori.com,何先生
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