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连续式多腔溅射系统 In-LineSputter Deposition System


系统可用于CIGS太阳能基板连续磁控溅射镀膜应用
 (Solar Cell Application)

系统可用于ITO玻璃连续磁控溅射镀膜应用


  水平式多腔室溅射系统
  该系统适用于在玻璃基板上沉积金属和氧化物，可应用于太阳能光电及EMI ITO.


  系统架构图

  Characteristic: 主要特性

   Horizontal sputtering deposition 水平连续溅射系统
   High reliable isolation valve design 高稳定性隔离阀设计
   Uniform gas flow conductance design 均匀气流电导设计
   High target utilization of magnetron cathode design 阳极磁控靶高利用率
   Quick exchanging target design 快速变换靶材设计
   19” TFT panel Human-Machine Interface 19“TFT人机界面
   DC & RF power safety interlock DC和RF电源安全互锁
   Alarm history record 安全报警装置