 |
NILT@ 纳米工艺解决方案
Nanoimprint Lightgraphy 纳米光学
Nano Fabriction Solution 纳米制作解决方案
Nanoimprint Tool 纳米压印设备 |
|
| THERMAL NIL 主要性能指标：
 集成控温卡盘，可对温度进行测量、控制
压印程序可进行编程（温度、压力、时间）
可适用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形状的压印模板。
可适用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials
压印程序可进行编程
适用所有热压印材料
设备可用于复制压印母板
压印温度可达200 摄氏度
压力范围：1‐10 bar
压印精度：40nm 或更好 (可完成工艺验收)
将模板加热和温度测量集成与压印载盘上
载盘适用于易碎衬底
快速升温，快速降温，拥有专利技术的卡盘设计，可保证快速升温、降温并保持良好的
温度均匀性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分钟
提供COC 有机聚合物中间层软膜（最先进的母板复制工艺），耗材及工艺培训
提供压印相关材料
提供工艺培训和支持
压印实例
详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672, 13701339561
 tom@hacori.com,何先生
|
