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NILT@ 纳米工艺解决方案 Nanoimprint Lightgraphy 纳米光学 Nano Fabriction Solution 纳米制作解决方案 Nanoimprint Tool 纳米压印设备 |

| THERMAL NIL 主要性能指标:
集成控温卡盘,可对温度进行测量、控制
压印程序可进行编程(温度、压力、时间)

可适用于100mm(4 英寸以下)所有尺寸和形状的压印模板。
可适用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials
压印程序可进行编程
适用所有热压印材料
设备可用于复制压印母板
压印温度可达200 摄氏度
压力范围:1‐10 bar
压印精度:40nm 或更好 (可完成工艺验收)
将模板加热和温度测量集成与压印载盘上
载盘适用于易碎衬底
快速升温,快速降温,拥有专利技术的卡盘设计,可保证快速升温、降温并保持良好的
温度均匀性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分钟
提供COC 有机聚合物中间层软膜(最先进的母板复制工艺),耗材及工艺培训
提供压印相关材料
提供工艺培训和支持
压印实例
详细信息请联系:
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672, 13701339561
tom@hacori.com,何先生
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