专注于真空薄膜领域
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超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System

   
                                              电子束蒸发系统LJ-550E

主要指标：
  类型：               1x20cc，4x70cc, 3KW, 6KW
  真空（Torr）     5×10-7，5×10-9
  压力控制：       可选
  流量控制：       可选
  加热：              400 ℃
  基板：              2，3，4，6，2"x5 or bigger
  晶片转速：       30-120rpm
  辅助沉积工艺：离子源辅助，等离子体辅助，基座偏压（Bias）
  loadlock：         可选
  真空計：           Ion/冷陰極/熱偶式 數位显示 

我们也可针对不同厂商/功率的电子枪结合工艺要求为您选择最佳的方案。


                                            电子束蒸发系统LJ-SET-300

          
                             电子束蒸发系统LJ-550E控制系统