| Specifications |
Gaussian shaped system |
Variable shaped system |
| 最小尺寸 |
20 nm |
60 nm |
| 衬底尺寸 |
2 inch, 4 inch, 6 inch wafers
65 mm x 65 mm template blanks, 6025 mask blanks |
6 inch wafers |
| 设计格式 |
GDSII, DXF, TDB, CIF |
GDSII, DXF, TDB, CIF | |
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PROCESSING SERVICE 工艺支持
NILT将根据客户的需要提供更多的工艺支持服务：
 Lithography 光学
Etching 刻蚀
Mental Deposition 金属镀膜
Test and Others 测试及其他服务
CLEAN ROOM FACILITES 超静间厂房及相关工艺设备
NILT拥有3个10-100级别的超净实验室。主工艺车间面见为1300平方米，设备包括
Electron beam lithography (Jeol JBX9300FS, 100keV, Vistec SB352HR, 100keV) 电子束光刻
Nanoimprint lithography Molecular Imprint, NanoLithoSolution, Obducat) 压印设备
ICP, RIE, DRIE for Si, Qz, Al, Cr 干法刻蚀
Test and Others （SEM, AFM, Profilometer) 检测设备
Others: LPCVD PECVD 其他工艺设备应用实例：
详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672, 13701339561
 tom@hacori.com,何先生
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