美国ABM光刻机

ABM光刻机公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机)，单独曝光系统，光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

截止到2010年3月，ABM公司在世界范围售出了800多台光刻机，50多台单独曝光系统。在美国拥有众多客户，最著名的客户是美国NASA和INTEL，ABM光刻机在台湾销量第一，超过半数的大学、研究所和部分工厂使用ABM的光刻机。

ABM光刻机在中国销售超过150台，拥有众多的不同类型的客户，包括：国家重点实验室、各领域研究所、知名大学和为数众多的工厂，设备用于生产和研发，ABM光刻机愿以其优越的性能和有竞争力的价格为中国半导体市场提供了优良的产品和良好的服务。

ABM光刻机总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。



ABM光刻机分多种型号主要机型为
ABM正面（单面）对准光刻机
ABM双面（背面）对准光刻机、可见光红外背后对准光刻机
ABM深紫外光刻机
ABM标准型LED光刻机
ABM全自动生产型光刻机
ABM大功率光刻机（500W，1000W，2000w）电源系统可选。
ABM半自动光刻机、全自动光刻机
ABM大尺寸光刻机（6英寸光源以上）


应用领域
电子封装（晶片凸点和晶片级CSP）
光电设备（LED光刻机，激光二极管光刻，CMOS光刻，光栅光刻，波导阵列光刻）
探测器  （CCD，近/远 红外，实时X射线）
MEMS光刻机 和MOEMS 设备显示器  （LCD光刻机，TFT-LCD光刻机，OLED光刻机）

适用感光层    适用与各种类型的光刻胶及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8   适用与G, H, I线及深紫外曝光

适用基材半导体材料    Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT，LiNbO3, 石英, 玻璃,   Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, Metal

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